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MAF-R

廠  牌 : TAZMO


該產品是採非接觸式,高速晶圓定位平台及圓心校準裝置。
採用背面吸附式,不接觸晶圓表面,使顆粒汙染量降到最小。

無須更換夾具,即可實現晶圓定心及角度調整,以利高速處理工件。

  • 多種晶片直徑範圍可做選購。
    (φ200mm~φ300mm、φ100mm~φ200mm、φ150mm~φ300mm、φ50.8mm~φ100mm)

  • 自動識別晶圓尺寸、Notch或定位平面,不需要上位電腦額外控制設定。

  • 緊湊型的設計,內建控制器。

  • 可對應RS232、RS485串聯通訊或照片I/O並行通訊,進行控制。

  • 利用CCD受光元件,來實現化合物或透明玻璃的對位。


適用工件φ200mm~φ300mm
SEMI/JEITA標準晶圓
處理時間4.5秒以內(φ300mm處理時)
處理精準度XY:±0.1mm以內(3σ);
θ:±0.1度以內(3σ)
處理範圍±5mm以內(晶圓中心)
晶圓夾持方式

背面真空吸附

晶片夾持確認數位顯示的真空感測器
連線方式RS232C、RS485串列通訊或照片I/O並列通訊。
Utility電源:DC24V±10% 5A 1系統
真空:-80kPa以下 1系統。
重量手臂約12kg